化學機械研磨 (CMP) 用於研磨半導體晶圓的表麵並去除多餘的材料。CMP 工藝中使用的研磨液既具有機械特性（研磨），又具有化學特性。如果研磨液成分不一致，晶圓質量就會受到影響。維薩拉的原位在線折光儀特別適合用於研磨液監測
、控製批次間變化、稀釋和混合，以保障晶圓質量和產量。

　　研磨液一致性至關重要

　　研磨液密度和成分是 CMP 工gong藝yi質zhi量liang的de關guan鍵jian參can數shu，但dan又you不bu像xiang始shi終zhong使shi用yong相xiang同tong的de研yan磨mo液ye混hun合he物wu那na麼me簡jian單dan。製zhi造zao商shang以yi濃nong縮suo形xing式shi交jiao付fu研yan磨mo液ye，並bing且qie不bu同tong批pi次ci的de研yan磨mo液ye可ke能neng會hui有you所suo不bu同tong。半ban導dao體ti製zhi造zao廠chang用yong去qu離li子zi水shui稀xi釋shi濃nong縮suo研yan磨mo液ye
，並bing添tian加jia氧yang化hua劑ji，通tong常chang是shi過guo氧yang化hua氫qing (H2O2)。這需要在 CMP 工藝之前完成
，因為 H2O2 隨著時間的推移會降解為水和氧氣。

　　zhezhongjiangjieyouyigeyouxiandeshijianchuangkou，zaiciqijiankeyibaochiyizhidebiaomianyanmozhiliangbingzuidaxiandudijianshaojingyuanquexianhefeipin。weilequebaojingyuanzhiliang，jingyuanchangxuyaonenggouquantianlianxujianceyanmoyechengfen。yuanweizaixianzheguangyitigongleyizhongjiandanqiejingjigaoxiaodefangfalaizhixingcijiance。zheguangyikeyianzhuangzaiyixiaweizhi：

　　在供給管線上監測進入的研磨液和 H2O2，並確定研磨液稀釋目標濃度水平。

　　在研磨液混合罐中實時控製 H2O2 的混合，以確保正確的濃度和混合時間。

　　在 CMP 工具中，確保研磨液成分在與晶圓接觸之前處於設定的限度內。

　　通過在線折射率 (RI) 測量獲得實時結果

　　在線折光儀的作用就是測量研磨液的 RI。每種混合物都有獨特的成分，因此也有獨特的 RI，keyishiyongzheguangyijinxingyanzhenghebiaozheng。shiyongzaixianzheguangyijinxingshishiceliang
，birenhelisancaiyangfangfadounenggengzhunquedifanyingyanmoyechengfendebianhua。ciwai，celiangjihuwupiaoyi，buyilaiyuliusu
，bingqiezhunquedubushouyanmoyezhongqipaodeyingxiang。

　　一旦根據特定研磨液的折射率和溫度特性進行校準，RI celiangzaiyongyuceliangzhurutonghewuyanmoyeshikeyishixianchusedekezhongfuxing。zaixianceliangyouyujiyushiyanshidefangfa
，yinweitamenxiaochulecaiyangheyangbenchulizhongyinruderenhebuquedingxing，liru H2O2 變質或溫度變化。

　　維薩拉 PR-33-S 半導體行業折光儀

　　維薩拉 PR-33-S bandaotixingyezheguangyizhuanweibandaotizhizaohuanjingzhongdezaixianshishiceliangersheji。tatijixiao
，caiyongbuhanjinshudetefulonghelanbaoshijieyebujianhebiaomian，feichangshiheceliangyanmoyehecijixinghuaxuewuzhi。jiangudeshejibaozhenglechangqiwendingxinghechangshiyongshouming，neizhidezhenduangongnengkejishigailanceliangxingneng。

　　PR-33-S 提供直接研磨液密度測量，集成的溫度傳感器確保高度精確的 RI 測(ce)量(liang)，可(ke)承(cheng)受(shou)工(gong)藝(yi)振(zhen)動(dong)而(er)不(bu)會(hui)產(chan)生(sheng)測(ce)量(liang)誤(wu)差(cha)。由(you)於(yu)獨(du)特(te)的(de)光(guang)學(xue)測(ce)量(liang)原(yuan)理(li)和(he)堅(jian)固(gu)的(de)設(she)計(ji)
，該(gai)設(she)備(bei)不(bu)會(hui)出(chu)現(xian)測(ce)量(liang)漂(piao)移(yi)
，並(bing)且(qie)幾(ji)乎(hu)無(wu)需(xu)維(wei)護(hu)。設(she)備(bei)不(bu)需(xu)要(yao)耗(hao)材(cai)，也(ye)不(bu)產(chan)生(sheng)化(hua)學(xue)廢(fei)物(wu)，為(wei)實(shi)驗(yan)室(shi)采(cai)樣(yang)和(he)滴(di)定(ding)提(ti)供(gong)了(le)一(yi)種(zhong)經(jing)濟(ji)高(gao)效(xiao)
、可(ke)靠(kao)且(qie)可(ke)持(chi)續(xu)的(de)替(ti)代(dai)方(fang)案(an)。研(yan)究(jiu)證(zheng)明(ming)，維(wei)薩(sa)拉(la)折(zhe)光(guang)儀(yi)的(de)測(ce)量(liang)結(jie)果(guo)與(yu)參(can)考(kao)滴(di)定(ding)的(de)結(jie)果(guo)有(you)極(ji)好(hao)的(de)一(yi)致(zhi)性(xing)
，並(bing)且(qie)能(neng)實(shi)時(shi)提(ti)供(gong)結(jie)果(guo)
，可(ke)以(yi)直(zhi)接(jie)在(zai)工(gong)藝(yi)中(zhong)使(shi)用(yong)並(bing)且(qie)可(ke)重(zhong)複(fu)。

　　快速、準確和可靠

　　在線 RI 測量已成為快速、準確、實時研磨液監測的行業標準。折光儀是一種安全
、經(jing)濟(ji)高(gao)效(xiao)且(qie)維(wei)護(hu)成(cheng)本(ben)低(di)的(de)監(jian)測(ce)研(yan)磨(mo)液(ye)密(mi)度(du)和(he)成(cheng)分(fen)的(de)方(fang)法(fa)。它(ta)們(men)也(ye)是(shi)值(zhi)得(de)信(xin)賴(lai)的(de)晶(jing)圓(yuan)廠(chang)檢(jian)測(ce)研(yan)磨(mo)液(ye)混(hun)合(he)和(he)分(fen)配(pei)係(xi)統(tong)故(gu)障(zhang)的(de)理(li)想(xiang)之(zhi)選(xuan)。通(tong)過(guo)驗(yan)證(zheng)研(yan)磨(mo)液(ye)是(shi)否(fou)始(shi)終(zhong)符(fu)合(he)要(yao)求(qiu)，折(zhe)光(guang)儀(yi)可(ke)幫(bang)助(zhu)晶(jing)圓(yuan)廠(chang)確(que)保(bao)晶(jing)圓(yuan)質(zhi)量(liang)和(he)產(chan)量(liang)，同(tong)時(shi)減(jian)少(shao)浪(lang)費(fei)。