•Calibre nmLVS-Recon 技術可對早期 IC 設計進行快速
、係統性和自動化的分析

為了幫助集成電路 (IC) 設計人員更快地實現設計收斂，Mentor, a Siemens business 近日將Calibre® Recon 技術擴展至 Calibre nmLVS 電路驗證平台。Calibre Recon 技術於2019年推出
，作為 Mentor Calibre nmDRC 套件的擴展
，旨在幫助客戶在早期驗證設計迭代期間快速、自動和準確地分析 IC 設計中的錯誤，從而極大地縮短設計周期和產品上市時間。

Calibre nmLVS-Recon 解決方案能夠幫助芯片級係統 (SoC) 工程師、電路設計人員和 IC 電dian路lu驗yan證zheng團tuan隊dui在zai開kai發fa階jie段duan的de早zao期qi

，識shi別bie並bing解jie決jue選xuan定ding的de係xi統tong錯cuo誤wu，縮suo短duan電dian路lu驗yan證zheng的de總zong周zhou轉zhuan時shi間jian。這zhe些xie係xi統tong錯cuo誤wu不bu僅jin會hui消xiao耗hao寶bao貴gui的de計ji算suan資zi源yuan

，而er且qie可ke能neng產chan生sheng數shu百bai萬wan個ge錯cuo誤wu結jie果guo，其qi中zhong許xu多duo錯cuo誤wu是shi因yin為wei設she計ji數shu據ju不bu完wan整zheng而er產chan生sheng。Calibre nmLVS-Recon 解決方案的早期采用者在分析早期設計時能夠實現 10 倍以上的運行時間改善，內存需求減少3 倍。

“Calibre nmLVS-Recon建立了電路驗證使用模型的全新範式，”三星電子設計支援副總裁 Jongwook Kye 表示
，“通過將Calibre nmLVS-Recon 技術與三星經過認證的 Sign-off Calibre nmLVS 設計套件相結合，我們的共同客戶將可以在早期設計中實現更快的迭代
，從而縮短 LVS 驗證周期
，在三星實現快速tape out。”

Calibre nmLVS-Recon jishujiyulinghuodepeizhikuangjia，zhichiduozhongshiyongmoxing，shishejituanduinenggouxuanzehefenxitedingleibiededianluyanzhengwenti。gaigongjucaiyongzidonghuadezhinengzhixingqifafa（intelligent execution heuristics），旨在幫助用戶在完整的 Calibre nmLVS Signoff 流程與 Calibre Recon 選擇的電路驗證檢查之間無縫導航。借助數據分區、設計細分
、數據複用、任務分布和錯誤管理的高級選項，可按原樣將 Calibre nmLVS-Recon 流程與任何晶圓代工廠/集成設備製造商 (IDM) 的 Calibre sign-off 設計套件結合使用，而且可以應用於任何工藝技術節點。

早期的設計版本通常包含許多明顯的係統違規問題。例如，“網絡短路” (shorted nets) 這樣的違規會造成數百萬個錯誤，而且會耗費大量計算資源。現在，電路驗證工程師可以使用 Calibre nmLVS-Recon 短(duan)路(lu)隔(ge)離(li)配(pei)置(zhi)，以(yi)交(jiao)互(hu)和(he)迭(die)代(dai)的(de)方(fang)式(shi)快(kuai)速(su)有(you)效(xiao)地(di)查(zha)找(zhao)並(bing)修(xiu)複(fu)這(zhe)一(yi)類(lei)型(xing)的(de)違(wei)規(gui)問(wen)題(ti)。此(ci)選(xuan)項(xiang)是(shi)內(nei)置(zhi)的(de)，可(ke)以(yi)實(shi)現(xian)最(zui)佳(jia)靈(ling)活(huo)性(xing)和(he)設(she)計(ji)分(fen)析(xi)意(yi)圖(tu)的(de)變(bian)化(hua)，同(tong)時(shi)保(bao)持(chi)易(yi)用(yong)性(xing)和(he)無(wu)縫(feng)的(de)使(shi)用(yong)模(mo)型(xing)轉(zhuan)換(huan)。

“通過向 Calibre 平台添加 Calibre nmLVS-Recon 技術，Mentor能夠繼續協助客戶直麵日趨複雜的 IC 設計挑戰。”Mentor的Calibre 設計解決方案產品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示，“Calibre nmDRC-Recon 方法提供的早期設計探索已經幫助多個設計團隊節省了大量的版圖驗證時間。現在，Mentor 通過 Calibre nmLVS-Recon 技術帶來了同樣的優勢，在縮短電路驗證的總周轉時間的同時，還幫助設計團隊解決了當今芯片設計的複雜性問題。”

Calibre nmLVS-Recon已隨 2020 年 7 月發布的 Calibre 係列同期上市，並計劃在以後的版本中提供更多功能。

Mentor Graphics Corporation是西門子旗下業務，擁有世界領先的電子硬件和軟件設計解決方案，致力於為全球最成功的電子、半導體和係統企業提供產品、谘詢服務以及優質支持。公司總部位於俄勒岡州。更多詳情敬請訪問：http://www.mentor.com