2009年4月18日—22日,第十七屆全國色譜學術報告會及儀器展覽會在湖南長沙賓館舉行。此次會議由中國化學會色譜專業委員會、zhongguosepuxuehuizhuban,zhongguokexueyuandalianhuaxuewuliyanjiusuochengban,hunanshengjingmiyiqiceshixuehuisepuzhuanyeweiyuanhuixieban,liubaiduoweilaiziquanguogedidefenxigongzuozheheguoneiwaidefenxiyiqichangshangyiqicanjialecicishenghui。
服務科學、世界領先的賽默飛世爾科技的色譜質譜產品以領先的技術性能深受專業用戶的青睞。此次會展上,我們的展位於B廳的正門口,突出展示了TSQ Quantum GC三重四極杆氣質聯用儀、DSQ II單四極杆氣質聯用儀、DFS高分辨氣質聯用儀、ITQ係列離子阱氣質聯用儀和TLX渦流淨化多元液相色譜係列的技術優勢和應用領域,吸引了眾多客戶前來谘詢並索取儀器資料。

20日下午,賽默飛世爾科技應用專家張偉國博士在五號會議室做了題為 “采用高選擇性反應監測(H-SRM)對複雜基質中多種待測物的痕量分析----TSQ Quantum GC三重串聯四極質譜” 的專題報告,介紹了TSQ Quantum GC三重四極杆氣質聯用儀的諸多技術優勢:特有的高選擇性反應監測(H-SRM) 功能,可有效增加對複雜基質中待測目標物檢測的選擇性;定量增強數據關聯掃描 (QED-MS/MS)等相關功能確保一次進樣可完成多種成分的定量分析和結構確證,極大的縮短了分析時間、提高分析效率。報告將相關法規要求、分析應用實例和儀器性能有機結合,語言生動、通俗易懂。

約八十位專業用戶參加了此次技術講座。現場反響熱烈,互動良好。多位專家針對分析工作中的實際問題和TSQ Quantum GC的具體性能踴躍提問,反映了分析業界同仁對TSQ Quantum GC產品和賽默飛世爾科技的高度關注和積極認可。
