全(quan)球(qiu)工(gong)控(kong)內(nei)存(cun)領(ling)導(dao)品(pin)牌(pai)宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)為(wei)滿(man)足(zu)工(gong)業(ye)計(ji)算(suan)機(ji)產(chan)業(ye)麵(mian)對(dui)嚴(yan)苛(ke)環(huan)境(jing)的(de)需(xu)求(qiu)
，持(chi)續(xu)為(wei)客(ke)戶(hu)研(yan)發(fa)具(ju)前(qian)瞻(zhan)性(xing)的(de)產(chan)品(pin)與(yu)技(ji)術(shu)，考(kao)慮(lv)日(ri)益(yi)受(shou)汙(wu)染(ran)環(huan)境(jing)所(suo)影(ying)響(xiang)的(de)電(dian)子(zi)組(zu)件(jian)硫(liu)化(hua)問(wen)題(ti)，宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)開(kai)發(fa)全(quan)球(qiu)第(di)一(yi)款(kuan)適(shi)用(yong)於(yu)含(han)硫(liu)環(huan)境(jing)的(de)抗(kang)硫(liu)化(hua)係(xi)列(lie)內(nei)存(cun)，日前已廣受肯定並陸續取得多國專利

，全新抗硫化內存不僅能有效解決環境汙染產生的硫化腐蝕現象，提升係統整體使用壽命，亦能滿足係統在惡劣環境下長時間穩定運作的需求，確保產品可靠性與耐用度。

    內存模塊的隱形殺手-電阻硫化

   不bu同tong於yu一yi般ban標biao準zhun型xing內nei存cun模mo塊kuai相xiang對dui穩wen定ding的de應ying用yong環huan境jing，由you於yu工gong業ye計ji算suan機ji常chang需xu於yu高gao溫wen或huo高gao汙wu染ran等deng環huan境jing下xia運yun作zuo，因yin此ci工gong控kong內nei存cun產chan品pin需xu因yin應ying各ge種zhong不bu同tong特te殊shu的de應ying用yong環huan境jing予yu以yi客ke製zhi化hua設she計ji
，宇yu瞻zhan科ke技ji藉ji由you抗kang硫liu化hua技ji術shu強qiang化hua內nei存cun模mo塊kuai抵di抗kang高gao汙wu染ran環huan境jing下xia硫liu化hua腐fu蝕shi問wen題ti，可ke大da幅fu提ti升sheng工gong業ye計ji算suan機ji整zheng體ti係xi統tong之zhi穩wen定ding性xing。高gao汙wu染ran環huan境jing中zhong濃nong度du超chao標biao的de懸xuan浮fu微wei粒li含han有you大da量liang硫liu化hua氣qi體ti，易yi與yu電dian阻zu中zhong作zuo為wei導dao體ti的de電dian極ji層ceng的de銀yin材cai料liao化hua合he產chan生sheng絕jue緣yuan體ti硫liu化hua銀yin，導dao致zhi電dian阻zu阻zu值zhi增zeng加jia，甚shen至zhi形xing成cheng開kai路lu而er失shi效xiao，尤you以yi汽qi車che電dian子zi、基(ji)地(di)台(tai)通(tong)訊(xun)等(deng)設(she)備(bei)因(yin)常(chang)暴(bao)露(lu)於(yu)汙(wu)染(ran)大(da)氣(qi)中(zhong)

，出(chu)現(xian)硫(liu)化(hua)腐(fu)蝕(shi)現(xian)象(xiang)影(ying)響(xiang)更(geng)甚(shen)，宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)全(quan)新(xin)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)絕(jue)佳(jia)的(de)抗(kang)硫(liu)化(hua)特(te)色(se)
，有(you)效(xiao)解(jie)決(jue)電(dian)阻(zu)硫(liu)化(hua)所(suo)產(chan)生(sheng)的(de)產(chan)品(pin)可(ke)靠(kao)度(du)與(yu)耐(nai)用(yong)度(du)問(wen)題(ti)。

    抗硫化技術與寬溫支持，解決高溫加速電阻硫化問題

    工(gong)業(ye)計(ji)算(suan)機(ji)長(chang)期(qi)曝(pu)露(lu)於(yu)高(gao)溫(wen)及(ji)高(gao)濃(nong)度(du)的(de)硫(liu)化(hua)物(wu)氣(qi)體(ti)中(zhong)，高(gao)溫(wen)會(hui)加(jia)速(su)電(dian)阻(zu)硫(liu)化(hua)的(de)形(xing)成(cheng)
，而(er)硫(liu)化(hua)速(su)度(du)快(kuai)會(hui)縮(suo)短(duan)產(chan)品(pin)使(shi)用(yong)期(qi)限(xian)。宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)開(kai)發(fa)全(quan)球(qiu)第(di)一(yi)款(kuan)工(gong)規(gui)寬(kuan)溫(wen)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)，結(jie)合(he)抗(kang)硫(liu)化(hua)並(bing)支(zhi)持(chi)寬(kuan)溫(wen)，在(zai)高(gao)汙(wu)染(ran)的(de)含(han)硫(liu)環(huan)境(jing)與(yu)嚴(yan)苛(ke)的(de)極(ji)端(duan)氣(qi)候(hou)下(xia)仍(reng)能(neng)穩(wen)定(ding)運(yun)作(zuo)。宇(yu)瞻(zhan)科(ke)技(ji)獨(du)家(jia)專(zhuan)利(li)抗(kang)硫(liu)化(hua)內(nei)存(cun)模(mo)塊(kuai)特(te)別(bie)適(shi)用(yong)於(yu)嵌(qian)入(ru)式(shi)工(gong)業(ye)計(ji)算(suan)機(ji)係(xi)統(tong)
，滿(man)足(zu)IPC產業在嚴苛環境下長時間穩定運作的需求。

    革命性的創新技術應用，未來IPC產業主流規範

   電子產品硫化的問題目前逐漸受到重視，尤其對需要高可靠度與長時間運作的工業計算機產品更加重要，抗硫化的技術勢必成為未來IPCchanyedezhuliuguifan
，yuzhankejigenjukangliuhuazhuanlijishusuozhizaodekangliuhuaneicunchuyoukuanwenzhichi，weilerangxunhaochuanshugengwending
，zhuanweikangliuhuaneicunmokuaishejiyuanchaoguoyibanyejiecaiyong 3µ標準的10倍 - 厚度高達30µ的金手指(Gold finger)，可靠度表現再升級
，為高汙染環境的工業控製係統、汽車電子、醫療、國防、網通、戶外基地台，甚至采礦控製係統等設備，帶來強固的技術與多重防護機能，是在嚴峻環境下運行的工業用係統之最佳解決方案。

宇瞻科技DDR4抗硫化係列內存規格: